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　　近日，国家新型显示技术创新中心蒸镀OLED显示创新平台组织召开“高世代蒸镀AMOLED技术线上研讨会”。会上深入研讨应用于高世代（G8.5/8.6）蒸镀AMOLED的TFT背板技术、OLED技术、蒸镀装备等关键技术方向及发展趋势。

　　国创中心蒸镀OLED显示创新平台主任、维信诺创新研究院院长李俊峰主持会议。

　　与会专家认为高世代蒸镀技术开发对于新型显示产业具有重要意义，中国要勇于领先，为未来产业发展提前布局。其中，在TFT技术方面，硅材料技术在小尺寸领域较为成熟，并在中大尺寸领域有进一步发展的可能。氧化物技术是最有机会的候选技术路线，但在稳定性、迁移率等方面仍面临挑战。除此之外，TFT背板技术的开发还要重视材料、器件、工艺与设备的协同。

在OLED技术方面，与会专家认为中大尺寸器件性能提升需要从叠层器件结构开发和材料性能提升两方面入手，包括特殊叠层材料的开发。目前RGB蒸镀被视为中尺寸OLED相对成熟的方案。

　　与会专家指出，国内装备厂商要充分认识到自身在中大尺寸蒸镀设备和配套的蒸发源、MASK开发上的基础，建议分阶段、分步骤进行装备开发，逐步向国际先进水平靠拢。本次高世代蒸镀AMOLED技术研讨会的召开，将进一步启发和鼓励产业界相关参与方开放合作，协同创新，努力将新型显示打造成我国的长板产业。

　　国家新型显示技术创新中心主任、TCL科技集团高级副总裁/CTO闫晓林、维信诺科技股份有限公司副总裁徐凤英、国家新型显示技术创新中心常务副主任、TCL工业研究院副院长马松林，以及来自天马微电子有限公司战略研发项目总监凌志华、天马微电子有限公司技术专家李贵芳、TCL华星光电技术有限公司副总裁、显创中心总经理张鑫、TCL华星光电技术有限公司副总裁、中小尺寸BG CTO李治福、TCL工业研究院量子点显示技术首席科学家曹蔚然、吉林奥来德光电材料股份有限公司副总经理马晓宇、上海升翕光电科技有限公司副总经理彭勃、华南理工大学材料学院院长彭俊彪、广州新视界光电科技有限公司总经理王磊、上海交通大学电子信息与电气工程学院副院长郭小军、维信诺总裁办中心总经理孙志斌等产业界和学术界的专家代表参会。

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